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簡要描述：華測儀器通過多年研究開發(fā)了一種高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置，在高速加熱高速冷卻時，具有良好的溫度分布?？蓪崿F(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護加熱式樣，無氣氛污染。同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單，有冷卻系統(tǒng)可靠。華測高速加熱冷卻管式爐馬弗爐測試儀器廠家
產(chǎn)品型號：HCGL-1000廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時間：2024-05-29訪 問 量：1752產(chǎn)品分類
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| 品牌 | HUACE/北京華測 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 石油,能源,電子/電池,航空航天,電氣 |
高速加熱冷卻管式爐馬弗爐
高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐，原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱，加熱與降溫速度慢，效率低下，也無法實現(xiàn)溫度高的精度測量，加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象，華測儀器通過多年研究開發(fā)了一種高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置，在高速加熱高速冷卻時，具有良好的溫度分布。可實現(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護加熱式樣，無氣氛污染?？稍诟哒婵?，高出純度氣體中加熱。設備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。
它提高了加熱試驗能力。同電阻爐和其他爐相比，紅外線反射爐節(jié)省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間，再試驗中也可改寫設定溫度值。從各方面講，都節(jié)省時間并提高實驗速度。同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單，有冷卻系統(tǒng)可靠。以提高試驗人員的工作效率，實現(xiàn)全溫度控制操作!
目電網(wǎng)中大量使用變頻器等高頻、高功率設備，將對電網(wǎng)造成諧波干擾。從而在高頻、弱信號測量過程中影響弱信號的采集，華測儀器公司推出的抗干擾模塊以及采用新特殊參數(shù)分析技術(shù),實現(xiàn)了高達120MHz的高頻測量,從而滿足了很多半導體,功能材料和納米器件的測試需求.
高速升溫時，配套的快速反應的紅外線反射爐控制裝置，本控制裝 營采用可編程溫度控制器。高緊湊設計，響應速度愉。為了高速加熱設備采用PID溫度控制， 同時采用移相觸發(fā)技術(shù)保證試價溫度。
主要用途：
主要用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、特種材料、建材、高校、科研院所、工礦企業(yè)做粉末焙燒、陶瓷燒結(jié)、高溫實驗、材料處理、質(zhì)高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD實驗、真空退火等。
華測高速加熱冷卻管式爐馬弗爐測試儀器廠家
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